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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为8屏幕尺寸晶圆生产的线服务设施的超去离子水机系统,每周存在含硅废污水150吨。废污水内虽无巨资属,但硅含量的高易结渣,且热敏电阻率需达到18MΩ·cm才造纸废水净化处理。原始净化处工院艺没有符合新公布的《电子元器件工业生产水污染源物的环保排放出标准》(GB39731-2020)格外的排放出允许值。 污水部分优点和缺点 最主要空气污物 :溶液硅(200-300mg/L)、颗料硅(颗粒直径0.1-1μm) 独特必须 :TOC<10μg/L,硼分量<5μg/L 饮用水质形态 :低水的电导率(<50μS/cm)但硅化学物质形态特征有难度 治理生产技术方案 创新发展利用"梯级膜分離+电去阴离子"组合名字艺: 微滤预净化处理 :1μm瓷器膜拦阻大颗粒状硅,通量恢复80LMH 阴离子调换聚酯树脂 :D201大孔树酯挑选性吸硅酸大分子 两级RO装置 :首段收购率60%,第五段用于高脱硼膜构件 EDI电去亚铁离子 :工作电流相对密度2A/m²,长期彻底清除残留物阴阳离子 太阳光的紫外线消菌 :254nm直射线含水量40mJ/cm² 技術突出 定制开发用阻硅剂(有机质胺类包覆物),廷缓膜影响时期3倍 EDI摸块的创新流道装修设计,硅的还原率优化至99.8% 在线平台硅数据分析仪器(在测量面积0.1-500μg/L)的控制会员精准营销的控制 工作工作成效 经3、方在线检测: 总硅从280mg/L减至0.05mg/L 硼量从8μg/L下降0.3μg/L 系统的利用率从原40%上升至68% 膜调换生长期缩短至5年,年加载代价降低了35%

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