某半导体设备手工制造企业公司因晶圆洗涤流程所产生含氨废水治理 工艺，需水量200吨/天。废水治理 工艺中除高锰酸盐指数外还带有氟化物和少量血本属，治理 困难程度大。当地政府排放物必须必须高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 污废水 组成成分及原因 晶圆拆洗废液（首要来原）：含化学需氧量200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工艺流程废水处理方法：含氢化物发生器铜、镍等高价属，pH值下跌大 CMP打磨废水处理方法：含硅颗粒物及高锰酸盐指数 治理工艺设备具体流程 所采用"检查是否发展+膜分割+折点氯化"团体工艺设备： 预加工处理 ：污泥脱水CaCl2除氟，把控好pH在7.5-8. 反渗透装置系統 ：避开0.01μm之内小粒物 反渗透膜性浓缩造成 ：将高锰酸盐指数溶缩至1000mg/L以内 折点氯化 ：精确性控住氯添加量，将挥发酚转化成为惰性气体 阴阳离子互相交换 ：保证巨资属达到标准 终结目的 挥发酚稳定的＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属量如果低于探测限 水使用率达75% 飞灰引发量避免40%